1. 智慧化與數據化管理 (Intelligent & Data-Driven Management)
系統內建PLC與圖形化觸控人機介面,即時監控溶解CO2濃度、氣泡粒徑與密度、壓力、流量等核心參數。所有數據皆被自動記錄,形成清洗參數履歷,可與主系統連線,確保每一次清洗的條件都精準重現。
2. 高效生成與均一穩定 (High-Efficiency Generation & Uniform Stability)
採用專利的奈米氣泡產生器,確保在極短時間內高效生成高濃度的奈米氣泡,且氣泡尺寸分佈極為狹窄、均一。氣泡的穩定性與均一性,是確保對整個晶圓表面進行無死角、同品質清洗的根本保證。
3. 模組化設計與未來擴充性 (Modular Design & Future Scalability)
整套系統採用標準化的模組設計,將氣體溶解單元、奈米氣泡發生單元、循環與控制模組各自獨立。此設計能依據客戶當前的產線需求進行配置,並為未來導入更多機台或新製程預留了擴充彈性。
4. 全方位安全防護 (Comprehensive Safety Protection)
設備內建多重安全防護機制,包括高壓氣體(CO2)管路的壓力偵測與洩漏警報、過壓自動洩壓保護等。同時具備品質連鎖功能,確保只有符合規格的奈米氣泡水才會被送往製程端,保護晶圓安全
5. 空間優化、操作簡便 (Space Optimization & Simple Operation)
本系統將氣體混合、溶解與奈米化生成等複雜程序整合於單一精簡機台,相較於傳統多槽式的化學清洗站,其佔地面積顯著縮小。全自動化的操作流程讓現場人員能輕鬆上手,降低管理複雜度。
6. 穩定輸出與多點支援 (Stable Output & Multi-Point Support)
系統經精密工程設計,可建立穩定的奈米氣泡水供水迴路,確保壓力與氣泡濃度在長距離輸送後依然穩定,能同時支援多台先進的單晶圓或多晶圓清洗機台,展現了卓越的系統整合與分配能力。



